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現在の学部生の研究を簡単に説明します。

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・気泡

気泡が2つ発生したとき，
その気泡がどのように動くのかについて
研究しています。

例えば二つの気泡は

（作 山本屋）

 

のような動きをします。

これらのような動きの違いは
「気泡の大きさ」や
1年生の流体力学でも学習する
「レイノルズ数」が関係しています。

気泡の研究には難しい事柄もありますが，流体力学で学習した知識を
大いに活かすことができ，とてもやりがいのある研究です。

 

・洗浄関連

　PVAブラシ（ロール型）(作 Pirori)

半導体デバイスの製造過程で使われる。
ウェーハ表面を平坦化するCMP(Cemical Mechanical Polishing)と呼ばれる
処理の後には不純物が発生するので，
それを洗浄するために使われる．

 

・二流体

二流体ジェット（作 Moriyama）

半導体を作るときに使われる
気体と液体を組み合わせた洗浄方法の研究
をしています。