現在の学部生の研究を簡単に説明します。
・気泡
気泡が2つ発生したとき,
その気泡がどのように動くのかについて
研究しています。
例えば二つの気泡は
(作 山本屋)
のような動きをします。
これらのような動きの違いは
「気泡の大きさ」や
1年生の流体力学でも学習する
「レイノルズ数」が関係しています。
気泡の研究には難しい事柄もありますが,流体力学で学習した知識を
大いに活かすことができ,とてもやりがいのある研究です。
・洗浄関連
PVAブラシ(ロール型)(作 Pirori)
半導体デバイスの製造過程で使われる。
ウェーハ表面を平坦化するCMP(Cemical Mechanical Polishing)と呼ばれる
処理の後には不純物が発生するので,
それを洗浄するために使われる.
・二流体
二流体ジェット(作 Moriyama)
半導体を作るときに使われる
気体と液体を組み合わせた洗浄方法の研究
をしています。