現在の学部生の研究を簡単に説明します。
・気泡
気泡が2つ発生したとき，その気泡がどのように動くのかについて研究しています
これらのような動きの違いは気泡の大きさや1年生の流体力学でも学習するレイノルズ数が関係しています。
気泡の研究には難しい事柄もありますが，流体力学で学習した知識を
大いに活かすことができ，とてもやりがいのある研究です。
・洗浄関連
PVAブラシ（ロール型）(作 Pirori)
半導体デバイスの製造過程で使われる。
ウェーハ表面を平坦化するCMP(Cemical Mechanical Polishing)と呼ばれる
処理の後には不純物が発生するので，
それを洗浄するために使われる．
・二流体
二流体ジェット（作 Moriyama）
半導体洗浄法の一つで，高速気流により加速させた大量の微小液滴を噴射し表面洗浄を行う方法で，現在，この方法の洗浄性能向上に関連した研究に取り組んでいます．
気液二相流れの複雑な流れの研究に取り組んでいます！