Ryuichiro Tsujimura （辻村龍一郎）, Takahiro Negoro（根来隆宏）and Koshi Nishida (西田幸司）gave their final presentations on the topic below :
Tsujimura:
単一電子トンネリングに向けた共ドープSi薄膜に関する研究とデバイス作製
Negoro:
ゲートを有するナノスケールSiトンネルダイオードの作製と評価
Nishida
単一電子トンネリング用に選択ドープを施したナノスケールシリコンデバイスの作製と評価
(Feb.17,2020)
All the best!!