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Fig.3-1 z=0面での偏光ベクトルの軌跡
Fig.3-2 位相差φ=0の偏光状態（直線偏光）
Fig.3-3 位相差φ=0の偏光状態（直線偏光）
Fig.3-4 位相差φ=π/4の偏光状態（楕円偏光）
Fig.3-5 位相差φ=π/4の偏光状態（楕円偏光）
Fig.3-6 位相差φ=2π/4の偏光状態（円偏光）
Fig.3-7 位相差φ=2π/4の偏光状態（円偏光）
Fig.3-8 位相差φ=3π/4の偏光状態（楕円偏光）
Fig.3-9 位相差φ=3π/4の偏光状態（楕円偏光）
Fig.3-10 位相差φ=4π/4の偏光状態（直線偏光）
Fig.3-11 位相差φ=4π/4の偏光状態（直線偏光）
Fig.3-12 位相差φ=5π/4の偏光状態（楕円偏光）
Fig.3-13 位相差φ=5π/4の偏光状態（楕円偏光）
Fig.3-14 位相差φ=6π/4の偏光状態（円偏光）
Fig.3-15 位相差φ=6π/4の偏光状態（円偏光）
Fig.3-16 位相差φ=7π/4の偏光状態（楕円偏光）
Fig.3-17 位相差φ=7π/4の偏光状態（楕円偏光）
Fig.3-18 1/2波長板による偏光の変化（偏光角θ=0の直線偏光を入力）。半透明部分が波長板。左：x,yベクトル成分の合成。右：x,yベクトル成分の分解。
Fig.3-19 1/2波長板による偏光の変化（偏光角θ=π/8の直線偏光を入力）。半透明部分が波長板。左：x,yベクトル成分の合成。右：x,yベクトル成分の分解。
Fig.3-20 1/2波長板による偏光の変化（偏光角θ=2π/8の直線偏光を入力）。半透明部分が波長板。左：x,yベクトル成分の合成。右：x,yベクトル成分の分解。
Fig.3-21 1/2波長板による偏光の変化（偏光角θ=3π/8の直線偏光を入力）。半透明部分が波長板。左：x,yベクトル成分の合成。右：x,yベクトル成分の分解。
Fig.3-22 1/2波長板による偏光の変化（偏光角θ=4π/8の直線偏光を入力）。半透明部分が波長板。左：x,yベクトル成分の合成。右：x,yベクトル成分の分解。
Fig.3-23 1/2波長板による偏光の変化（偏光角θ=5π/8の直線偏光を入力）。半透明部分が波長板。左：x,yベクトル成分の合成。右：x,yベクトル成分の分解。
Fig.3-24 1/2波長板による偏光の変化（偏光角θ=6π/8の直線偏光を入力）。半透明部分が波長板。左：x,yベクトル成分の合成。右：x,yベクトル成分の分解。
Fig.3-25 1/2波長板による偏光の変化（偏光角θ=7π/8の直線偏光を入力）。半透明部分が波長板。左：x,yベクトル成分の合成。右：x,yベクトル成分の分解。
Fig.3-26 1/4波長板による偏光の変化（偏光角θ=0の直線偏光を入力）。半透明部分が1/2波長板。左：x,yベクトル成分の合成。右：x,yベクトル成分の分解。
Fig.3-27 1/4波長板による偏光の変化（偏光角θ=π/8の直線偏光を入力）。半透明部分が1/2波長板。左：x,yベクトル成分の合成。右：x,yベクトル成分の分解。
Fig.3-28 1/4波長板による偏光の変化（偏光角θ=2π/8の直線偏光を入力）。半透明部分が1/2波長板。左：x,yベクトル成分の合成。右：x,yベクトル成分の分解。
Fig.3-29 1/4波長板による偏光の変化（偏光角θ=3π/8の直線偏光を入力）。半透明部分が1/2波長板。左：x,yベクトル成分の合成。右：x,yベクトル成分の分解。
Fig.3-30 1/4波長板による偏光の変化（偏光角θ=4π/8の直線偏光を入力）。半透明部分が1/2波長板。左：x,yベクトル成分の合成。右：x,yベクトル成分の分解。
Fig.3-31 1/4波長板による偏光の変化（偏光角θ=5π/8の直線偏光を入力）。半透明部分が1/2波長板。左：x,yベクトル成分の合成。右：x,yベクトル成分の分解。
Fig.3-32 1/4波長板による偏光の変化（偏光角θ=6π/8の直線偏光を入力）。半透明部分が1/2波長板。左：x,yベクトル成分の合成。右：x,yベクトル成分の分解。
Fig.3-33 1/4波長板による偏光の変化（偏光角θ=7π/8の直線偏光を入力）。半透明部分が1/2波長板。左：x,yベクトル成分の合成。右：x,yベクトル成分の分解。
Fig.3-34 対角成分のみの誘電テンソルによって記述される電場E及び電束密度D
左：Ex成分のみ、中央：Ey成分のみ、右：ExとEyの合成
Fig.3-35 Fig.3-33の右図を45°傾けた座標から観測する場合。誘電テンソルに非対角項が発生することと対応している。
Fig.3-36 1軸性結晶の屈折率面（左）と波動関数（右）。光がθ=0°の方向へ伝播する場合。
Fig.3-37 1軸性結晶の屈折率面（左）と波動関数（右）。光がθ=45°の方向へ伝播する場合。
Fig.3-38 1軸性結晶の屈折率面（左）と波動関数（右）。光がθ=90°の方向へ伝播する場合。
Fig.3-39 一軸性結晶中の電場ベクトルE, 電束密度ベクトルD, 波数ベクトルk, ポインティングベクトルSの方向。D⊥k, E⊥S。
Fig.3-40 一軸結晶におけるビーム光源の波数ベクトルk, ポインティングベクトルS, 波面の方向。
Fig.3-41 左：二軸性光学結晶、中央：屈折率楕円体、左：常光線・異常光線の屈折率（伝搬方向が極座標θ=0,φ=0の場合）
Fig.3-42 左：二軸性光学結晶、中央：屈折率楕円体、左：常光線・異常光線の屈折率（伝搬方向が極座標θ=π/4,φ=0の場合）
Fig.3-43 左：二軸性光学結晶、中央：屈折率楕円体、左：常光線・異常光線の屈折率（伝搬方向が極座標θ=π/4,φ=π/4の場合）
Fig.3-44 物理学実験III,IV「レーザー光学」光の偏光の装置写真
レーザー→偏光板→1/2 or 1/4波長板→偏光板
Fig.3-45 1/2波長板での実験θH=45deg, θ21=0degの場合。
Fig.3-46 1/2波長板での実験。θH=0deg, 時刻固定でのθ21を変化させたときの動画。
Fig.3-47 1/2波長板での実験。θH=30deg, 時刻固定でのθ21を変化させたときの動画。
Fig.3-48 1/2波長板での実験。θH=45deg, 時刻固定でのθ21を変化させたときの動画。
Fig.3-49 1/4波長板での実験。θH=45deg, θ21=0degの場合。
Fig.3-50 1/4波長板での実験。θH=0deg, 時刻固定でのθ21を変化させたときの動画。
Fig.3-51 1/4波長板での実験。θH=30deg, 時刻固定でのθ21を変化させたときの動画。
Fig.3-52 1/4波長板での実験。θH=45deg, 時刻固定でのθ21を変化させたときの動画。
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