静岡大学 電子工学研究所 極限デバイス研究部門・ナノデバイス分野 池田・濱﨑研究室
IKEDA・HAMASAKI LABORATORY
MENU
メニューを飛ばす
Top
トップページ
Topics
トピックス
Awards・受賞
Invited Talk・招待講演
Kakenhi・科研費
Grants・助成金
Adoption・採用
Researches
研究内容・成果
シリコンナノ構造による熱電変換特性の高効率化
ナノ構造材料に対する熱電特性評価技術の確立
フレキシブル熱電材料の創製と新機能デバイスへの応用
シリコン単電子冷却デバイスの開発
Achievements
業績
Papers・発表論文
Books・著書
Proceedings・プロシーディング
Members
研究室メンバー
卒業生はこちら
For Students
学生の皆さんへ
English
English Site
新着
HOME
»
新着 »
トピックス
»
科研費
»
奨励研究A
奨励研究A
投稿日 : 1997年4月1日 | カテゴリー :
科研費
奨励研究A「酸室化膜形成における表面反応精密制御の研究」(2年)採択
一覧に戻る
池田研究室立ち上げ
→
検索:
カテゴリー
トピックス
助成金
受賞
招待講演
採用
科研費
新着情報