検査用装置


◆名称:走査電子顕微鏡
◆型番:JSM-7600F
◆メーカー:JEOL(製品紹介ページ
◆用途:高分解能観察
◆スペック:
二次電子分解能…1.0nm(15kV)、1.5nm(1kV)
倍率…×25~×1,000,000(画像サイズ120nm×90nmにて)
加速電圧…0.1kV~30kV
プローブ電流…1pA~200nA
検出器…上方検出器、下方検出器
試料交換室…ワンアクション交換機能組込み
試料ステージ…ユーセントリック、5軸モータ駆動
 X-Y…70mm×50mm
 傾斜…-5°~+70°
 回転…360°
 作動距離…1.5mm~25mm
◆操作手引き:こちらをクリック(旧版)



◆名称:走査型プローブ顕微鏡システム
◆型番:SPI3800
◆メーカー:SII
◆用途:微少領域の表面形状観察、電気・機械物性計測
◆スペック:
X,Y走査電圧…±200[V]max
サーボ電圧…±200[V]max
スキャン方式…DSPプログラムによるDAコンバータ制御方式
ローテーション…±180°
最大測定データ…1024×1024データ
同時測定…512×512maxデータで同時4チャンネル測定
ソフトウェア…測定機能、データ補正機能、三次元表示機能、データ解析機能、ファイル操作機能
◆操作手引き:



◆名称:半導体/FPD検査顕微鏡
◆型番:MX51
◆メーカー:OLIMPUS(製品紹介ページ
◆用途:可視光、深紫外光による観察
◆スペック:
(1)光学系…UIS2光学系(無限遠補正)
(2)照準部
 ストローク…32mm
 駆動分解能…微動ハンドル1回転0.1mm
 最大標本高さ…30mm
(3)ステージ
 6×6インチハンドル…158(X)×158(Y)mm
 4×4インチハンドル…100(X)×105(Y)mm
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◆名称:デジタルマイクロスコープ
◆型番:DSX500
◆メーカー:OLIMPUS(製品紹介ページ
◆用途:観察
◆スペック:
ズーム比…13.5(光学ズーム0.26x-3.5x)、30(デジタルズーム使用時)
照準部ストローク…95mm
最小分解能…0.01μm
最大標本高さ…95mm
ステージストローク…100×100mm
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◆名称:反射分光膜厚計
◆型番:FE-3000
◆メーカー:大塚電子(製品紹介ページ
◆用途:光干渉法による膜厚解析
◆スペック:
サンプルサイズ…最大200mm×200mm×7(厚さ)mm
測定可能な層膜の数…5層
膜厚測定範囲…1nm~40μm
分光器…ブレーズドホログラフィック型
膜厚精度…
 1μm未満:NIST認定試料(SiO2/Si)の膜厚保障範囲内
 1μm以上:±0.2%
ステージストローク…X:200mm、Y:250mm、Z:10mm
ステージ駆動分解能…1μm
測定ソフトウェア…マニュアル測定/連続測定/マッピング測定/測定演算同時機能
解析ソフトウェア…非線形最小二乗法/ピークバレー法/FFT解析法/最適化法/基板解析/裏面反射補正/各種nk解析モデル式/絶対反射率/解析結果のフィッティング/屈折率nの波長依存性/消衰係数k/三次元グラフ
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◆名称:エリプソメーター
◆型番:DHA-OLXS
◆メーカー:溝尻光学工業所(製品紹介ページ
◆用途:膜厚、屈折率、吸収係数の非接触測定
◆スペック:
最大試料サイズ…12インチ
入射角…55°~75°(5°刻みで可変)
測定方法…回転検光子法
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◆名称:サーフェイスプロファイラ
◆型番:Alpha-Step IQ
◆メーカー:KLA-Tencor(類似製品紹介ページ
◆用途:粗さ、うねり、段差の測定
◆スペック:
測定方式…ステージ固定、センサ駆動
走査距離…最大10mm
走査速度…2μm/秒~200μm/秒
サンプリングレート…50、100、200、500、1000ポイント/秒
測定レンジ…±10μm
針圧設定範囲…1mg~100mg
段差測定再現性…測定レンジ±10μmにおいて8Å(1σ)以内
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◆名称:抵抗率測定器
◆型番:K-705RS
◆メーカー:共和理研(製品紹介ページ
◆用途:半導体材料等の抵抗率を4探針法の原理で測定する
◆スペック:
測定方式…直流4探針法
測定項目…Ω/□、V/I、Ω-cm
測定範囲…
 Ω/□:10μ~5M
 V/I、Ω-cm:1μ~500K
厚み補正…1μm~
F2補正(プローブが境界に直角)…0.1mm~9.9mm
F3補正(プローブが境界に平行)…0.1mm~9.9mm
印加電流…
 Ω/□:453.2mA~453.2nA
 V/I:1000mA~1000nA
 Ω-cm:628.3mA~628.3nA
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