夏季一斉休業に伴うクリーンルーム利用停止のお知らせ(8/9(金)12:00-8/19(月)12:00)

  • 夏季一斉休業に伴い、光創起棟クリーンルーム空調が停止されます。
    つきましては下記の日程でクリーンルームの利用を停止させていただきます。

    【停止期間】
    ・8月9日(金)12時~8月19日(月)12時
     

  • Clean room air-conditioning will be stopped due to the summer holiday.
    Therefore, the clean room will be closed during the following period.

    Period of shutdown
    August 9 (Fri.) 12:00 – August 19 (Mon.) 12:00

電子描画装置利用停止のお知らせ(利用再開未定)※9/25(水)追記

  • 電子描画装置利用停止のお知らせ

    トラブル内容:電子銃の加速電圧が立ち上がらない

    対応:メーカーと対応中
    停止期間:未定

    7/10(水)追記:7/18(木)メーカーの点検作業予定

    7/25(木)追記:原因が高圧タンクの故障と判断
           引き取り修理のためタンクを郵送して対応依頼中

    9/25(水)追記:9/25(水)-9/27(金)に高圧タンク修理作業を実施
           作業後、動作に問題なければ利用再開となります

  • Stop using Electron Beam Lithography System

    Corresponding: Request for repair to the manufacturer
    Stop period: undecided

冷却水系統停止による一部装置利用停止のお知らせ(7/3(水)9:00-17:00)

  • 冷却水系統の停止による一部装置利用停止のお知らせ

    6/28(金)から7/1(月)にかけて
    クリーンルーム天井からの漏水が確認されました。
    現在は応急処置を行ったため、装置の利用に問題ありません。

    原因である冷却水系統の補修工事を行うため、
    下記の日時では光創起棟の冷却水系統の供給が停止されます。
    そのため冷却水系統に接続している装置は下記の時間利用できません。

    停止期間:7月3日(水)9:00~17:00

    停止装置:卓上ランプ加熱装置、真空蒸着装置(Al専用、汎用)、フッ素RIE、ECR、恒温ブース(電子線描画装置用)
         マグネトロンスパッタ装置

    ※電子線描画装置については恒温ブースのみが停止します
     装置の利用には問題ありませんが、ご承知おきください。

    ご不便をおかけして申し訳ありませんが、
    ご理解いただけますようお願いいたします。

  • Stop using some instruments for Cooling water system construction

    From 6/28 (Fri.) to 7/1 (Mon.)
    Water leakage from the clean room ceiling was confirmed.
    No problem in using the equipment has been found now that emergency measures have been taken.

    To perform repair work on the cooling water system, which is the cause of the problem,
    The cooling water supply will be stopped during the following date and time to repair the cooling water system.
    Therefore, equipment connected to the cooling water system will not be available during the following time.

    Shutdown period: July 3 (Wed.) 9:00~17:00

    Suspended equipment: Desktop Lamp Annealing, vacuum deposition equipment (Al only, general purpose), Parallel Plate RIE System, ECR,
               constant temperature booth (for electron beam lithography equipment),Magnetron sputtering