用力設備定期点検が当初の予定よりも早く終了したことに伴い、
クリーンルーム装置の利用再開日程を下記に変更いたします。
・クリーンルーム利用再開
7月3日(月)8時~
・電子線描画装置
7月4日(火)12時~
・ECRスパッタ装置、電子ビーム蒸着装置
7月3日(月)装置立上げ予定
The schedule for the resumption of clean room equipment use has been changed as follows.
Resumption of clean room equipment use
Monday, July 3, from 8:00 a.m.
Reopening of the lithography equipment
Tuesday, July 4, from 12:00 p.m.
ECR sputtering equipment and electron beam deposition equipment
Equipment start-up scheduled for July 3 (Mon.)