電子線描画装置利用再開のおしらせ
電子線描画装置の復旧が終了しました。
利用を再開いたします。原因：条件設定テキストファイルの記憶容量逼迫によるソフトウェア異常
対応：データの整理による記憶容量の改善electron Beam Lithography System restoration
The restoration of the electron Beam Lithography System has been completed.
Use of the system will be resumed.