停電とメンテナンスに伴うクリーンルーム利用停止のお知らせ(6/20-6/30)
6月21日(土)と22日(日)は、城北キャンパス内全体で停電が実施されます。
それに伴い、クリーンルームの設備メンテナンスが入ります。
つきましては光創起棟CRは以下の日程で利用停止となります。・6月20日(金)12時～
クリーンルーム装置利用停止・6月21日(土)～6月22日(日)
一斉停電（定期点検）・6月23日(月)～年6月27日(金)
用力設備定期点検
※クリーンルーム空調、圧縮空気、窒素ガス発生装置、冷却水 等を保守
※各機器の停止期間は、１～２日を想定・6月30日(月)12時～
クリーンルーム装置利用再開各装置の利用再開は6月30日（月）12時以降を予定しています。
ただし、描画装置は立ち上げ操作に数日必要なため、7月1日(火)以降に再開する予定です。
情報の更新がありましたら改めてお知らせいたします。Notice of suspension of clean room use due to power cuts and maintenance(6/20-6/30)
On June 21th (Sat) and 22th (Sun), blackout will be implemented throughout the Johoku campus.
Along with that, the iPERC CR will be banned from entering the following schedule.・20th From 12 o’clock Device use suspension
· 21 – 22th: Simultaneous blackout
· 23 – 27th: utility equipment maintenance inspection
・30th From 12 o’clock Device usage resumeWe will inform you again when there is an update of information.
令和7年度電研クリーンルーム利用説明会開催のお知らせ(4/24(木)15:00-)
令和7年度電研クリーンルーム利用説明会開催のお知らせ(4/24(木)15:00-)
下記の日程で電研クリーンルーム利用説明会を開催します。
■日時：4月24日（木）15:00～16:00
■場所：浜松キャンパス 共通講義棟2階共21教室
■内容：
1.安全上の注意点について
2.電研CRの紹介
3.使用上のルール
4.装置について
5.薬品について
6.非常時の対応について
7.質疑応答Information on the briefing session on the use of RIE clean room (Thu 24 Apr, 15:00-)
Date: Thursday, 24 April, 15:00-16:00
Place: Room 21, Lecture Building, Hamamatsu Campus
Contents:
1.Safety precautions
2.Introduction to RIE CR
3.Rules for use
4.Equipment
5.About RIE CR chemicals
6.Emergency measures
7.Question and answer session
【日程変更】超純水精製装置利用停止のお知らせ(3/27(木))
【日程変更】超純水精製装置利用停止のお知らせ(3/27)
超純水製造装置のメンテナンス作業を行うため、
下記の日程で超純水の利用を停止いたします。
(追記:3/19(水)日程が変更になりました。)停止期間：3月27日（木）9:00-18:00
Notice of suspension of use of ultrapure water purification system(3/27)
To carry out maintenance work on pure water production equipment,
the use of ultrapure water will be suspended during the following schedule.
(PS:(3/19) The dates have been changed.)Date: Thursday, March 27 9:00-18:00
マスクアライナ利用停止のお知らせ(3/19(水))
マスクアライナ利用停止のおしらせ(3/19)
マスクアライナシャッターアセンブリ交換作業のため、
下記の日時でマスクアライナの利用を停止いたします。停止期間：3月19日(水)13:00-18:00
Stop using Mask Aligner(3/19)
Due to maintenance work, the mask aligner will be unavailable on the following dates and times.
Date: Wednesday, March 19 13:00-18:00
超純水精製装置利用停止のお知らせ(2/19-2/20)
超純水精製装置利用停止のお知らせ(2/19-2/20)
純水製造装置の装置更新作業を行うため、
下記の日程で超純水の利用を停止いたします。停止期間：2月19日(水)-2月20日(木)
※作業終了次第利用を再開いたします
Notice of suspension of use of ultrapure water purification system(2/19-2/20)
To upgrade pure water production equipment,
The use of ultrapure water will be suspended during the following schedule.Date: Wednesday, Feb 19 – Thursday, Feb 20
*We will resume use as soon as the work is completed.
電子線描画装置利用停止のお知らせ(12/24 11:00- 12/25)
電子描画装置利用停止のお知らせ(12/24 11:00~ 12/25)
レーザーヘッド(XY測長用)交換作業を実施するため、
下記の日時で電子線描画装置の利用を停止いたします。停止期間：12月24日(火)11:00-10月25日(水)
Stop using Electron Beam Lithography System(12/24 11:00- 12/25)
Due to maintenance work, Electron Beam Lithography System will be unavailable on the following dates and times.
Date: Tuesday, December 24 11:00~ Wednesday, December 25
年末年始、クリーンルーム使用停止のお知らせ(12/26(木)9:00-1/7(火)9:00)
年末年始、CR使用停止のお知らせ
年末年始の静岡大学浜松キャンパス閉鎖に伴い、
CRの使用を停止させていただきます。停止期間：12月26日(木)9:00~1月7日(火)9:00
Notice of no service of CR during year-end and New Year holidays.
We will stop using CR during the year-end and New Year holidays.
Date: Thursday,Dec 26, 9:00 ~ Tuesday, Jan 7, 9:00
走査型電子顕微鏡(SEM)利用停止のお知らせ(12/2(月)13:00-19:00)
走査型電子顕微鏡(SEM)利用停止のおしらせ(10/22-10/24)
高電圧印加用マイクロスイッチ修理のため、
下記の日時で走査型顕微鏡(SEM)の利用を停止いたします。停止期間：12月2日(月)13:00-19:00
Stop using Scanning Electron Microscope(12/2)
Due to maintenance work, the Scanning Electron Microscope will be unavailable on the following dates and times.
Date: Monday, December 2 13:00-19:00
マスクアライナ利用停止のお知らせ(10/22(火)-10/24(木))
マスクアライナ利用停止のおしらせ(10/22-10/24)
マスクアライナZ軸メンテナンス作業のため、
下記の日時でマスクアライナの利用を停止いたします。停止期間：10月22日(火)-10月24(木)
※作業内容によって利用再開が早まる場合があります。Stop using Mask Aligner(10/22-10/24)
Due to maintenance work, the mask aligner will be unavailable on the following dates and times.
Date: Tuesday, October 22~ Thursday, October 24
電子線描画装置利用再開のお知らせ
電子線描画装置利用再開のおしらせ
電子線描画装置の復旧が終了しました。
利用を再開いたします。大変長らくお待たせしてしまい申し訳ございません。
どうぞご了承いただけますようお願い申し上げます。electron Beam Lithography System restoration
The restoration of the electron Beam Lithography System has been completed.
Use of the system will be resumed.